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靶材的鍍膜凱澤金屬在之前的文章中簡單講過，在濺射的過程中，對靶材的質(zhì)量相比于傳統(tǒng)的材料行業(yè)來說，要求較為高些。在“靶材質(zhì)量對大面積鍍膜生產(chǎn)的三大影響” 本文中，凱澤金屬...

金屬靶材是指用在高速荷能粒子轟擊的目標材料。并且通過更換不同的靶材（如鋁、銅、不銹鋼、鈦、鎳靶等），即可得到不同的膜系（如超硬、耐磨、防腐的合金膜等）。而隨著時代的發(fā)展，越...

銅靶材目前廣泛應用于電子、通信、超導、航天等領域，并且銅靶材價格低廉，使得其成為真空鍍膜行業(yè)中的主力軍。由于真空鍍膜行業(yè)的限制，對銅靶材的尺寸和形狀要求嚴格，因而必須嚴...

濺射靶材在隨著使用率的增加，表面可能會附著有殘留物，如粉塵、油污、氧化物等，繼而靶材表面有不同程度的結(jié)瘤，產(chǎn)品質(zhì)量也會有所下降，導致生產(chǎn)成本增加。因此，需要濺射靶材進行充分...

鈦合金比重小、熔點高（1600℃左右）、塑性好，具有比強度高、耐蝕性強，能在高溫下長期工作等優(yōu)點，因而已經(jīng)越來越多地用作飛機和飛機發(fā)動機的重要承載部件，除了鈦合金材料的鍛件外，還...

濺射靶材是通過離子轟擊靶材表面，靶材的原子被擊出，此現(xiàn)象稱為濺射。濺射靶材在濺射過程中產(chǎn)生的原子沉積在基體表面成膜被稱為濺射鍍膜，然而在濺射鍍膜時膜層經(jīng)常會有不少問題...

靶材磁控濺射的沉積率也就是沉積的速率，是指沉積物對可容空間充填的速度。濺射沉積率不僅是成膜速度的一個重要參數(shù)，也是對靶材成膜的特性，如牢固度。薄膜應力、表面光潔度等有...

鍍膜靶材上的薄膜是一種特殊的物質(zhì)形態(tài)。在厚度這個特定方向上尺寸很小，是一個微觀可測的量，而且薄膜厚度由于表面和界面的存在，使物質(zhì)連續(xù)性發(fā)生終端，使得薄膜材料與靶材材料產(chǎn)...

鈦靶鎳靶等靶材在使用過程中，其表面逐漸會產(chǎn)生一種黑色顆粒狀物質(zhì)，我們稱之為黑化物，或是說靶材中毒。靶材黑化中毒容易產(chǎn)生諸多問題，影響產(chǎn)品的質(zhì)量。因此分析靶材黑化中毒的原...

靶材是制備薄膜的主要材料之一，被廣泛應用于電子及信息產(chǎn)業(yè)，如液晶顯示屏、集成電路、平板顯示等等，對材料的純度和穩(wěn)定性要求較高。更換不同的靶材，即可得到不同的膜系。凱澤金...

鈦靶、鉻靶、鋯靶、鎳靶等合金濺射靶材的要求比其他材料要高，除了如純度、尺寸、各項雜質(zhì)含量、缺陷控制等一般要求外，還有表面粗糙度、成份與組織均勻性、異物（氧化物）含量與尺...

硬質(zhì)涂層是通過氣相沉積法，在硬質(zhì)合金刀片表面上涂覆耐磨的碳化鈦、氧化鋁等薄層，從而形成表面涂層硬質(zhì)合金，這種涂層材料耐磨性好，耐腐蝕，且耐高溫氧化，在切削刀具和耐磨零部件等...

對于需要制備不同尺寸的靶材所采用的制備方法也不一樣，比如制備小尺寸的靶材，常用的是粉末熱等靜壓法以及粉末壓制燒結(jié)法。那么對于大尺寸的靶材制備各種表面強化和表面防護涂...

磁控濺射是制備薄膜材料的關鍵技術，而鈦靶材是這項技術中需要使用的鍍膜材料。現(xiàn)在很多行業(yè)，如集成電路，裝飾鍍膜行業(yè)、平面顯示等都需要用到磁控濺射技術，這些行業(yè)對于產(chǎn)品的質(zhì)...

隨著產(chǎn)業(yè)技術的發(fā)展，工業(yè)生產(chǎn)需要高質(zhì)量的靶材產(chǎn)品，因為靶材的質(zhì)量直接影響著磁控濺射薄膜的性能，目前，企業(yè)一般在購買靶材上更偏向用成分結(jié)構均勻的高密度靶材進行濺射鍍膜，以減...

濺射鉬靶材因其自身優(yōu)點，已經(jīng)在電子行業(yè)、太陽能電池、玻璃鍍膜等方面得到了廣泛的應用。隨著現(xiàn)代科技微型化、集成化、數(shù)字化、智能化的快速發(fā)展，鉬靶材的用量將持續(xù)增長，對其...

鈦靶鎳靶靶材作為磁控濺射系統(tǒng)中的陰極，為制備沉積薄膜提供物質(zhì)來源，其組織結(jié)構和性能的差異對薄膜的組織結(jié)構和性能也應該具有密切聯(lián)系。靶材的制作方法之一粉末冶金法中，需要...

大家都知道鈦鎳鋯鉻濺射靶材的規(guī)格很多，而且應用行業(yè)也很廣泛，不同行業(yè)常用的靶材種類也有所不同，今天我們就隨凱澤金屬一道來了解濺射靶材的行業(yè)分類的相關知識吧！一、濺射靶材...

大家都知道靶材分為很多種，比如合金，氧化物，銅、鋁、不銹鋼、鎳、鈦等金屬，而根據(jù)金屬的不同，需要用到各種不同的靶材制備方法，凱澤金屬結(jié)合相關資料，整理如下：濺射靶材的不同工藝方...

為了降低旋轉(zhuǎn)磁控濺射靶材的成本，提高靶材利用率，靶材廠家和學者共同對靶材結(jié)構進行了研究。研究結(jié)果表明，通過調(diào)整中心磁體和外磁體的位置，能有效提高鈦靶材利用率和靶材的刻蝕...

AZO靶材是其中一種制造高科技節(jié)能玻璃鍍膜材料，用于用于物理鍍膜中的濺鍍，除了AZO靶材，還有金屬靶材和陶瓷靶材。陶瓷旋轉(zhuǎn)靶材采用燒結(jié)及綁定工藝，可生產(chǎn)較好大長度4000mm，單節(jié)較...

陶瓷靶材的種類及其應用隨著電子產(chǎn)業(yè)的發(fā)展，高技術材料逐漸向薄膜轉(zhuǎn)移，鍍膜期間隨之發(fā)展迅速，靶材是一種具有高附加值的特種電子材料，是濺射薄膜材料的源較。陶瓷靶材作為非金屬...

1、化工行業(yè)：整體法蘭(IF)、螺紋法蘭(Th)、板式平焊法蘭(PL)、帶頸對焊法蘭(WN)、帶頸平焊法蘭(SO)、承插焊法蘭(SW)、對焊環(huán)松套法蘭(PJ/SE)、平焊環(huán)松套法蘭(PJ/RJ)、襯里...

鈦合金TC4材料的組成為Ti-6Al-4V，屬于(α+β)型鈦合金，具有良好的綜合力學機械性能。比強度大。TC4的強度sb=1.012GPa，密度g=4.4*103，比強度sb/g=23.5，而合金鋼的比強度sb/g小于1...

鋯和鈦具有許多類似的物理、化學性能。例如他們的熔點都很高，純鈦： 1668 ℃，純鋯： 1852 ℃。鋯和鈦的化學活性都很高，而且鋯比鈦更高，但表面都能形成致密的鈍化膜，具有很高的耐蝕性...

靶 材 主 要應 用 于 電 子及 信息 產(chǎn) 業(yè) ，如 集 成 電路 、信息 存 儲 、液晶顯示屏、太陽能電池、電子控制器件等領域。隨著集成電路、太陽能和平面顯示器產(chǎn)業(yè)的發(fā)展，靶材的...

鍍膜方法真空蒸鍍?yōu)R射鍍離子鍍化學反應鍍可鍍物質(zhì)金屬金屬某些化合物金屬、合金、化合物、陶瓷、高分子物質(zhì)金屬、合金、陶瓷、化合物膜材蒸發(fā)方式真空蒸鍍真空濺射蒸鍍、濺...

由于磁控濺射鐵磁性靶材的難點是靶材表面的磁場達不到正常磁控濺射時要求的磁場強度，因此解決的思路是增加鐵磁性靶材表面剩磁的強度，以達到正常濺射工作對靶材表面磁場大小的...

真空鍍膜中常用的方法有真空蒸發(fā)和離子濺射。真空蒸發(fā)鍍膜是在真空度不低于10-2Pa的環(huán)境中，用電阻加熱或電子束和激光轟擊等方法把要蒸發(fā)的材料加熱到定溫度，使材料中分子或原...

近年來，隨著新材料的開發(fā)，尤其是薄膜材料的發(fā)展和應用，帶動控濺射沉積技術的飛速發(fā)展，在科學研究領域和工業(yè)生產(chǎn)中有著不可替代的重要作用。本文主要介紹了控濺射沉積鍍膜技術的...

高純鈦作為電子信息領域重要的功能薄膜材料，近年來隨著我國集成電路、平面顯示、太陽能等產(chǎn)業(yè)的快速發(fā)展需求量快速上升。磁控濺射技術(PVD)技術是制備薄膜材料的關鍵技術之...

鈦靶材的制造方法，包括選取鈦原料，將鈦原料熔融，并將熔湯澆鑄，澆鑄后的熔湯冷卻形成鑄錠坯料；之后立即進行熱處理，然后將保溫熱處理后的鑄錠坯料形成鈦坯；進行第二熱處理，然后將保溫...

寶雞市凱澤金屬材料有限公司，多年來專注于濺射靶材、真空鍍膜鈦、鎳、鋯、鉻靶材的生產(chǎn)及深加工，靶材廣泛應用于主營平板顯示器用靶材，鍍膜玻璃工業(yè)用靶材，電阻靶材，汽車車燈鍍膜...

法蘭連接是一種在壓力容器和壓力管道工程設計中應用非常廣泛的可拆式連接形式。保證連接的強度安全和密封安全是對法蘭接頭設計提出的最基本要求。因此，法蘭計算需要解決三個...

TC4鈦合金是20世紀40年代初期研制成功的一種中等強度的口β型鈦合金，具有優(yōu)良的綜合性能，譽稱萬能合金，是最早最廣泛用于飛機結(jié)構的通用鈦合金，包括板材、棒材和鍛鑄件等，主要用...

銘及其化合物廣泛應用于染料 、 顏料 、 皮革 、 電鍍 、 冶金等行業(yè) ， 含鋸廢水如處理不當或未有效控制會引起水與土壤污染 。 含銘廢水污染物毒性大 ， 通過食物鏈危害人們的...